С 19 по 22 сентября в г. Галле, Германия, прошел 27-й Европейский симпозиум «НАДЕЖНОСТЬ ЭЛЕКТРОННЫХ УСТРОЙСТВ, ФИЗИКА ОТКАЗОВ И АНАЛИЗ» (ESREF 2016), посвященный вопросам повышения, определения надежности, поиску и анализу причин отказов, статистической обработке экспериментальных результатов испытаний материалов, устройств, микроэлектроники, организации испытательного процесса и др.
Учеными НОЦ «Стойкость» НИЯУ МИФИ (ИЭПЭ НИЯУ МИФИ и АО «ЭНПО СПЭЛС») был представлен постерный доклад на тему «The radiation test based assessment of process quality and reliability for conventional 65-nm CMOS technology». Авторы доклада: Л.Н. Кессаринский, Г.Г. Давыдов, Д.В. Бойченко, А.С. Артамонов, А.Ю. Никифоров. По результатам конференции доклад будет опубликован в международном журнале Microelectronics Reliability, индексируемом базами данных Scopus и Web of Science.
